2018年上海复旦大学高分子科学系微电子材料课题组招聘公告（1-2名）
已结束
招聘截止时间：2018-07-31
【课题组简介】
导师简介：
邓海博士，国家千人特聘专家，复旦大学高分子科学系，聚合物分子工程国家重点实验室，教授，博士生导师。师从活性自由基聚合和活性阳离子聚合的先驱者Sawamoto教授，曾在美国Akron大学高分子系、加州伯克利大学化学系深造，关于立体可控聚合的研究成果收录在美国的教科书中。此外，邓教授拥有丰富的产业经验，特别是乳液聚合、半导体光刻材料的研发经验。曾任美国罗门哈斯公司(现为陶氏化学公司)高级研究员、美国英特尔公司材料部门高级主管，东京应用化学公司Fellow。
主要研究领域有：
主攻下一代半导体制程用的光刻材料，特别是10 nm以下分辨率材料的设计合成及应用。课题组受到国家及企业的大力支持，研究经费充足，拥有完善的光刻材料的合成，表征及性能测试平台。目前已经攻克了5 nm~ 10 nm高分辨率的聚合物纳米材料。
课题组主页：详细请见报名信息
【课题背景简介】
半导体制造中最关键的材料是光刻胶，有多高分辨率的光刻胶就能造出多小的器件。过去的50年内，半导体产业一直沿着Moore’s law前行。Intel、台积电和三星微电子都已进入了7 nm分辨率的EUV光刻工艺，并将很快进行量产。面对半导体芯片领域向更小、更快和更高密度方向发展的趋势，下一代 10~5 nm 半导体制程的光刻技术和材料已成为全球半导体行业的研发热点。
目前国内的半导体工艺研发也进入了14 nm制程，国内只能量产低端的i-线光刻材料(国外30年前的产品)，国内的高端光刻胶产业几乎处于空白状态，所有的90 nm~ 14 nm制程用的光刻材料完全依靠日本进口。
下一代10 nm及以下半导体制造所需的EUVL和DSA光刻材料，目前被美国和日本企业所垄断。为了不再受制于人，我国急需研发探索10纳米以下的下一代光刻材料来打破了技术壁垒，实现弯道超车。目前本组已研发出世界上最快速自组装的、5 nm超高分辨率的DSA材料，该成果已发表在SPIE(美国光电协会)等国际会议上，受到广泛好评。为了更好地保护本组知识产权，目前已申请了若干中国及美国专利，相关论文正在整理之中。
【招聘基本要求】
由于科研工作需要，本课题组招聘科研助理1～2名，具体要求如下：.
1、有强烈的事业心，希望成为半导体微电子材料行业专才的优秀学生;
2、拥有有机合成、高分子合成、材料背景的硕士或以上学历(应届的或者有工作经验的);
3、具有良好的英文阅读和写作能力，能快速查阅外文文献;
4. 性格开朗，有个人魅力。最好是体育爱好者。
【工作内容】
1、科研
2、处理课题组的文书工作。
【用工方式】
租赁制
【个人待遇】
课题组为入选者提供优越的科研条件和稳定的支持，工资待遇按照市场情况面谈，课题组根据研究进展和贡献给予补贴。
【应聘申请材料】
请应聘者将申请材料(简历和代表论文全文)发至：详细请见报名信息。
【招聘时间】
申请时间为2018年4~7月。
最新招聘信息请查看中国教师招聘网：http://www.jiaoshizhaopin.net
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